![CVD金刚石(化学气相沉积金刚石)](http://www.mobileteer.com/jp/sites/japan/files/styles/crop_sei_cp_1920x360/public/2021-01/products/hero_banner/P32-5-2_CVD.jpg?h=a143f996&itok=5JOCU5_H)
cvdダescヤモンド
半導体レ,ザ用サブマウント,パワ,トランジスタ用基板等
CVD(化学气相沉积)法によって得られるバインダーを含まない多結晶ダイヤモンドです。チップマウント,ワaaplヤボンディング用の各種メタラaaplズ薄膜を形成することが可能です。
材質 | 特長 | 平均線膨張係数 保留时间~ 100℃(ppm / K) |
熱伝導率r.t。[W/(m·K)] |
---|---|---|---|
cvdダescヤモンド | CVD(化学气相沉积)法による,厚み0.1 ~ 0.4毫米のダイヤモンドのヒートシンクです。 | 2.3 | >1000 |